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城市群发展
北京市政府资助对企业R&D投入的激励效应及影响因素研究
作 者:
罗植
出版日期:
2018年04月
报告页数:
10 页
报告大小:
1.23MB
报告字数:
10410 字
所属丛书:
北京蓝皮书
浏览人数:
下载次数:
所属图书:
北京公共服务发展报告(2017~20...
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文章摘要
在门槛回归模型的基础上,本报告实证检验了北京市政府的R&D资助对企业科技投入的激励效应,同时分析了影响这一效应的主要因素。实证检验的结果说明,政府R&D资助对企业科技投入的激励存在显著的门槛效应,该门槛效应受到资助强度、企业规模和产权结构的影响。从激励企业R&D投入的角度看,政府R&D资助强度最好控制在9%以内,且对大企业或国有企业的资助更为有效。
关键词
政府R&D资助
企业R&D投入
门槛效应
作者简介
罗植:
罗植,北京市社会科学院管理研究所副研究员,博士,主要研究方向为公共管理、公共政策分析。
专家观点
京津冀教育发展基本状况研究
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京津冀智能制造软件产业协同发展的对策建议
专家访谈 | 叶堂林:数字经济如何助推京津冀协同发展
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