北京市政府R&D资助的激励效果分析——基于门槛回归的经验证据

作　　者：罗植

出版日期：2015年01月

报告页数：10 页

报告大小：1.19MB

报告字数：9019 字

所属丛书：北京蓝皮书

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政府R&D资助对企业R&D投入具有正反两方面作用。利用门槛回归模型，本研究对北京市政府R&D资助的激励效果进行了实证检验。检验结果显示，北京市政府R&D资助对企业R&D投入的激励效果具有显著的门槛效应，其激励效果随资助规模的提高表现出递减趋势。

关键词 R&D 激励门槛回归非线性

罗植：罗植，博士，北京市社会科学院助理研究员，主要研究方向：公共管理、公共政策分析、政府管理创新研究。